AODE 半导体行业解决方案
助力优化半导体材料温控系统
01 案例介绍
在当今科技飞速发展的时代，作为半导体产业基石的半导体材料，随着人工智能、大数据和5G技术的广泛应用，市场需求持续增长。在其生产过程中，对材料温度的精准控制要求极其严格，材料的质量直接影响到下一道工序。因此，温控方案至关重要。
02 痛点
作为半导体材料制造领域的领先企业，S公司一直致力于通过技术创新提升产品质量。然而，在传统的蒸汽加热控温方式下，S公司面临着诸多挑战。
由于无法精确控制反应釜内物料的温度，导致产品合格率不达标，原材料浪费严重，不仅增加了生产成本，也限制了企业的市场竞争力。因此，S公司迫切需要一套全新的温控解决方案，实现半导体材料制造过程中的精准温度控制，从而提升产品质量和生产效率。
03解决方案
奥德凭借在工业温控设备领域深厚的技术积累和丰富的经验，为S公司量身定制了高精度全厂温控解决方案。
该解决方案涵盖了从基础低温制冷机组、加热主机到TCU温控单元、超低温-80℃单元等全系列设备，能够满足S公司不同工艺环节的严苛温度要求。
01 高温液体智能温控设备
温控范围为室温+45℃至180℃。采用加热和冷却双PID动态调节控制模式，确保精准控温。该设备还支持TCP远程启停，方便远程操作和监控。此外，它还具备超温、电源逆相、电机过载、介质短缺、管路堵塞、压力异常、排气保护等7大安全保护功能，有效保障设备安全稳定运行。
02 高低温液体智能温控设备
控温范围：-40℃ 至 80℃。采用 PLC + 人机界面的控制方式，操作简便直观。电气箱采用防爆 ExdⅡBT4 设计，适用于特殊环境。并具备 6 项安全保护功能，确保设备在高低温环境下可靠运行。
03 水冷式防爆低温冷油机
控温范围可达 -80℃ 至 +5℃，满足超低温工艺要求。同时配备多项安全保护功能，确保设备在低温环境下稳定运行。
AODE 温控系统四大优势
精准控温
AODE 温控设备通过动态调节反应釜内物料的温度，可实现±0.5℃的高精度控温，有效解决传统温控方式下的温度偏差问题，确保半导体材料制程的温度稳定性，从而提高产品质量和一致性。
高效稳定
奥德温控设备采用多级PID控制技术，并集成多重安全保护措施，不仅能快速响应温度变化，还能确保设备长期运行的稳定性和可靠性，有效提升生产效率，减少设备故障造成的生产中断和损失。
整体工厂设计
奥德温控解决方案可满足-80℃至180℃的宽温需求，适用于半导体制程中各种复杂工艺和特殊环境，例如防爆、超低温等场景，为S公司生产提供全方位的温度保障。
智能物联网
通过TCP远程通讯功能，奥德的设备可实现集中控制，方便S公司对生产过程进行实时监控和数据分析，有利于优化生产流程，提升生产管理水平，加速企业智能化升级进程。
奥德
S公司通过引入奥德高精度全厂温控解决方案，成功解决了传统温控方式带来的诸多问题，实现了半导体材料制造过程中的精准控温，显著提高了产品合格率，减少了原材料浪费，有效提升了公司的生产效率和市场竞争力。
未来，奥德将继续以创新为动力，以客户需求为导向，为更多企业提供高品质的温控解决方案，助力半导体行业及其他高端制造业的高质量发展。
